
세정 공정에서 발생한 미세 오염이 그대로 다음 단계로 넘어가면, 불량은 라인 끝에서야 드러납니다. 이미 여러 공정을 거친 뒤에 발견된 결함은… <더 보기>

“완벽한 결과는 완벽한 준비에서 온다.” 고대 로마의 철학자 세네카가 남긴 이 말은, 수율을 놓고 치열하게 경쟁하는 반도체 제조 현장에서 유독… <더 보기>

불과 몇 년 전만 해도 반도체 세정 공정은 생산 라인의 부수적인 단계로 여겨졌습니다. 그러나 칩 집적도가 높아지고 패키지 구조가 복잡해지면서,… <더 보기>

많은 반도체·전자 부품 제조 현장에서 세정 공정에 대한 체계적인 기준이 아직 부족합니다. 장비를 도입하면서도 어떤 방식이 자사 라인에 맞는지, 다단계… <더 보기>

반도체 제조 현장에서 세정 공정을 '마무리 단계'로 여기는 시각이 있다. 그러나 오염 입자 하나가 웨이퍼 전체의 운명을 바꿀 수 있다는… <더 보기>

반도체 칩 하나에 새겨지는 회로의 선폭이 수 나노미터 수준으로 좁아지면서, 제조 공정에서 허용할 수 있는 오염의 한계도 함께 달라졌습니다. 과거에는… <더 보기>

국제반도체장비재료협회(SEMI) 자료에 따르면, 반도체 공정 불량의 상당 비중이 이물질 오염에서 비롯되는 것으로 보고되고 있습니다. 육안으로 확인조차 되지 않는 수 마이크로미터… <더 보기>

품질은 타협할 수 없는 기업의 생명입니다. 글로벌 기술 표준을 선도하는 전문가들은 반도체와 첨단 부품 제조 현장에서의 미세 오염 관리가 곧… <더 보기>

오늘날 IT 기기의 성능이 고도화될수록 제품의 완성도를 결정짓는 핵심 요소는 아주 미세한 오염물 하나를 얼마나 완벽하게 관리하느냐에 달려 있습니다. 눈에… <더 보기>

반도체 제조 현장에서 눈에 보이지 않는 아주 작은 입자 하나가 얼마나 치명적인 결과로 이어질 수 있는지 고민해 보신 적 있으신가요?… <더 보기>